Atomic Layer Deposition

L'Atomic Layer Deposition est un procédé de dépôt de couches atomiques. Le principe consiste à exposer une surface successivement à différents précurseurs chimiques afin d'obtenir des couches ultra-minces.



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Procédé chimique - Semi-conducteur - Micro-électronique - Électronique

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  • IR lamp temperature/pressure modulation/alternating layer ALD (source : google)
  • Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition technique that is based on the sequential use of a gas phase chemical process. The majority of ALD... (source : en.wikipedia)
  • Atomic Layer Deposition (ALD) utilizes sequential precursor gas pulses to... Atomic layer deposition systems include two or more source gas delivery... (source : icknowledge)

L'Atomic Layer Deposition (ALD) est un procédé de dépôt de couches atomiques. Le principe consiste à exposer une surface successivement à différents précurseurs chimiques afin d'obtenir des couches ultra-minces. Il est utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs.

L'énorme avantage de l'ALD est de pouvoir faire une monocouche sur une surface présentant un très fort rapport d'aspect (des creux et des bosses). Surtout car la réaction de CVD se déroule directement à la surface, sur une monocouche de gaz précurseurs adsorbés.

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