Gravure sèche
La gravure sèche est un ensemble de technique de gravure des semi-conducteurs en exposant le matériau à un bombardement d'ions.
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- La technique de gravure par plasma utilise une décharge luminescente établie à ... que si le principal avantage de la gravure sèche est l'anisotropie de .... Gravure sèche en mode RIE : plasma de CHF3 (20cc/mn) + O2 (1ccmn), 45 mT, 80 W... (source : cime.inpg)
- La gravure sèche mentionnée ci-dessus est effectuée plutôt par un... illustrant la façon dont la gravure sèche est effectuée par un processus de ... (source : epatras.economie.fgov)
- La gravure sèche est reliée à la formation d'espèces chimiques hautement..... Les gravures et leurs équipements par voie humide en batch ou par plasma RIE... (source : micromodule)
La gravure sèche (dry etching) est un ensemble de technique de gravure des semi-conducteurs en exposant le matériau à un bombardement d'ions (généralement sous forme de plasma). Elles se distinguent des méthodes de gravures chimiques classiques qui utilisent de solutions réactives.
Parmi les gravures sèches, on compte :
- la gravure au plasma
- la gravure ionique réactive (RIE)
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